在洁净工程技术水平上，80年代末期，国外已大量建成0.1微米级的超净室，1987年日本三洋新泻工场建成十级洁净厂房3000平方米，NIT原木则建成了四个1000平方米控制0.1微米尘埃的千级厂房，换气次数高达300次/分。美国在台湾的TSMCS新厂已建成第四代管道式洁净室总面积达10000平方米。 我国使用的0.1微米十级洁净室主要依赖从国外进口。由于高洁净级别的洁净室造价十分昂贵，0.1微米十级洁净室每平方米造价高达1万美元以上。在大规模集成电路制造装备的投资中洁净厂房占有相当高的比例，这与集成电路工艺不断更新，产品更新换代周期越来越快的发展趋势不相适应，严重制约了大规模集成电路技术的发展。美国ASYST公司、德国MW公司发展的使用隔离技术的亚微米生产微环境系统设备和技术在近几年中得到广泛采用。该项**的洁净技术在100级洁净度的洁净厂房中，采用工艺设备局部使用隔离技术的微环境，把投资比例压缩到高级别的微环境，消除了操作者与工艺设备运行的二次污染源产生对集成电路成品率和可靠性的影响作用。